Acest gigant laser a primit o vizită secretă de la CEO-ul TSMC

Potrivit rapoartelor presei coreene, CEO-ul TSMC, Wei Zhejia, a vizitat sediul ASML din Olanda pe 26 mai și, în același timp, a vizitat gigantul industrial al laserului 100 de ani de Tonspeed din Germania.
Locația lui Wei a fost dezvăluită de Christophe Fouquet, CEO ASML, și Nicola Leibinger-Kammüller, CEO Thomson, prin intermediul rețelelor sociale.
Se spune că TSMC are în vedere introducerea echipamentelor High NA EUV pentru procesul de 1,6 nm după A16, care urmează să producă în volum în a doua jumătate a anului 2026, și să folosească echipamentele Low NA EUV existente până atunci, ceea ce este critic pentru sub. -2nm procese de cip.
Conform celor mai recente știri, noua viteză de producție a napolitanelor pentru litografie High NA EUV de la ASML de 400 până la 500 de napolitane pe oră, standardul actual EUV de 200 de napolitane pe oră 2-2.5 ori viteza de producție, adică o creștere de 100% la 150%, ceea ce va crește și mai mult capacitatea de producție și va reduce costurile.
Anul trecut, Intel a fost primul din industrie care a obținut ASML pentru designul personalizat al mai multor echipamente High NA EUV. Industria se așteaptă acum ca Intel să utilizeze pe deplin această nouă generație de litografie în procesul său de semiconductor de 14 A (1,4 nm).
Anterior, TSMC, la rândul său, a spus că nu va cumpăra cele mai recente echipamente High-NA EUV ale ASML, pe care l-a considerat prea scump pentru a avea sens economic până în 2026, dar această idee pare să zboară acum.
Principalul protagonist al acestei vizite secrete nu a fost doar ASML, ci și gigantul laser TRUMPF din Germania. Fondată în 1923, TRUMPF și-a sărbătorit anul trecut împlinirea a 100 de ani.
Trumpf Group este singurul producător din lume care poate furniza surse de lumină pentru litografie cu ultraviolete extreme (EUV). Prin urmare, afacerea cu litografie EUV este, de asemenea, unul dintre punctele centrale ale dezvoltării lui Trumpf în prezent.
De altfel, Trafigura investește de mai bine de 16 ani în sisteme de generare a laserului litografiei. Din 2005, Trafigura cooperează cu Cymer Inc. în Statele Unite și a continuat să aprofundeze cooperarea după ce Cymer a fost achiziționat de ASML. În acest scop, TRUMPF a înființat o filială specializată, TRUMPF Lasersystems for Semiconductor Manufacturing, concentrându-se pe dezvoltarea și producția de lasere EUV. În 2015, ASML a comandat 15 instrumente de litografie EUV de la TRUMPF, marcând afacerea cu litografie EUV drept piesa centrală a dezvoltării lui Thomson.
Potrivit raportului Trafigura anunțat anterior pentru anul fiscal 2022/2023 (încheiat la 30 iunie 2023), vânzările totale au ajuns la 5,4 miliarde de euro, în creștere cu 27% față de anul precedent.
Dintre acestea, vânzările afacerii EUV au ajuns la 971 de milioane de euro, o creștere de 22,2% față de anul precedent. În principal, pentru a furniza dispozitive cu ultraviolete extreme (EUV), furnizează lasere cu dioxid de carbon de putere ultra-înaltă utilizate pentru a conduce emisia EUV în modulul sursă uriaș al instrumentului de litografie al ASML.
Pentru țara noastră, încă nu există nicio întreprindere care poate produce în masă sursa de lumină pentru litografie EUV. Cu toate acestea, conform ultimelor știri, pe 14 mai, Institutul de Optică și Mașini de Precizie din Shanghai al Academiei Chineze de Științe (SIPM), în colaborare cu Institutul de Tehnologie Harbin (HIT) și Institutul de Tehnologie din Shanghai (SIT), a a făcut o descoperire majoră în domeniul ultravioletului extrem (EUV) și al razelor X moi și a realizat cu succes modularea structurală a luminii vortexului. Acest progres de reper, nu numai că marchează tehnologia extremă a sursei de lumină ultravioletă a Chinei a făcut un pas cheie înainte, mai multă cercetare și dezvoltare în litografie națională a eliminat barierele tehnologice de bază.
În plus, unele întreprinderi interne, cum ar fi AOP Optronics, Fujing Technology etc., sunt, de asemenea, implicate activ în dezvoltarea și producția de tehnologii legate de fotolitografie. Printre ei, acționarul majoritar al AOP fotoelectrice Changchun Institutul de mașini optice al Academiei Chineze de Științe, care este implicat în sursa de lumină litografie internă, o parte optică a lucrării de cercetare și dezvoltare;
Și Fuching Technology este un unicorn tehnologic al materialelor litografice din amonte sub CAS, care a dezvoltat KBBF, un material cristal optic neliniar, cu numele complet KBeNbBFO, care poate converti lumina laser în lumină laser ultravioletă profundă cu o lungime de undă de 176nm.
Această sursă de lumină cu laser cu ultraviolete profunde are o energie extrem de mare și o concentrație foarte mare, astfel încât poate fi folosită pentru a crea lasere cu stare solidă ultraviolete profunde. Și în domeniul producției de cip, poate îmbunătăți precizia fotolitografiei existente de mai mult de 10 ori, îmbunătățind astfel mult eficiența și precizia fabricării cipurilor.
În prezent, deși aceste progrese interne nu au atins încă nivelul producției în masă a surselor de lumină pentru litografie EUV, ele au pus bazele dezvoltării ulterioare a Chinei în domeniul tehnologiei litografiei.